納米級(jí)3D打印 無掩膜紫外光刻 超快激光加工
設(shè)備銷售/定制研發(fā)/加工服務(wù)
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隨著科技的不斷進(jìn)步,我們的生活也越來越依賴于各種技術(shù)的支持。而其中一項(xiàng)頗受矚目的技術(shù)便是三維激光直寫。這項(xiàng)技術(shù)可以將虛擬的設(shè)計(jì)圖轉(zhuǎn)化為真實(shí)物品,讓人們的想象變成現(xiàn)實(shí)。該產(chǎn)品技術(shù)的原理是通過激光束在材料表面上完成層層堆積,最終形成一個(gè)三維物體。與傳統(tǒng)的加工方法相比,該產(chǎn)品更加精確和靈活,能夠制造出更加復(fù)雜的結(jié)構(gòu)和形狀。三維激光直寫的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛。它可以被應(yīng)用于航空航天、汽車制造、醫(yī)學(xué)和藝術(shù)等領(lǐng)域。例如,它可以用于制造航天器部件、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)零部件、人工骨骼和牙齒等醫(yī)療器械,還...
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隨著科技的不斷發(fā)展,微納3D打印技術(shù)已成為當(dāng)下矚目的前沿科技之一。該產(chǎn)品是指將微米、納米級(jí)別的物質(zhì)通過3D打印技術(shù)進(jìn)行加工和制造,可用于生物醫(yī)學(xué)、電子通信等領(lǐng)域,具有高精度、高效率和低成本等優(yōu)勢(shì)。一、微納3D打印的基本原理該產(chǎn)品技術(shù)基于傳統(tǒng)3D打印技術(shù),但其制造對(duì)象是微米、納米尺度的物體。該產(chǎn)品技術(shù)主要分為兩種方式:一種是基于激光曝光的方法,即利用激光將液態(tài)或溶膠態(tài)的材料局部固化成所需形狀;另一種則是基于納米壓印的方法,即將模板壓印到薄膜上,以形成所需形狀。二、該產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)...
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微納3D打印是3D打印領(lǐng)域前沿的技術(shù)之一。近年來,世界范圍內(nèi)納米級(jí)別的三維制造技術(shù)亦在不斷突破,并被運(yùn)用于傳統(tǒng)制造業(yè)的升級(jí)改造。具體而言,該技術(shù)工作原理是以計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)圖為模板,運(yùn)用高性能材料,用高速逐點(diǎn)加工的方式制造出復(fù)雜的超高精度三維產(chǎn)品結(jié)構(gòu),并且其制造設(shè)備操作簡(jiǎn)便、具備可直接成型、效率高、節(jié)省材料、降低生產(chǎn)成本等優(yōu)點(diǎn)。目前魔技納米技術(shù)設(shè)備主要運(yùn)用于超高精度三維模具制造、芯片封裝、微型光學(xué)器械、精準(zhǔn)醫(yī)療器械、人造超材料等。例如,針對(duì)光芯片封裝,其設(shè)備可憑借激光無限視場(chǎng)逐點(diǎn)激...
5-6
1.機(jī)械加工法:這是一種比較早期的微透鏡加工方法,其優(yōu)點(diǎn)是簡(jiǎn)單易行,利用高精度CNC工具可以挖出對(duì)應(yīng)的微透鏡結(jié)構(gòu),或者利用更為精密的單點(diǎn)金剛車工具挖出微球凹坑結(jié)構(gòu),當(dāng)然加工的都是模具,再配合注塑工藝或者熱壓成型獲得帶有微透鏡陣列的板材或者型材。2.噴膠法:利用高精密噴嘴將聚合物液體噴出,并形成一定尺寸的液滴,在空間中飛行后著陸在襯底表面形成半球面,再通過加熱溶劑揮發(fā),或者紫外光照固化的方式形成球面微透鏡結(jié)構(gòu),輔以高精度的機(jī)械機(jī)臺(tái)和噴嘴陣列以及控制系統(tǒng),就可以獲得有效面積的微透...
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應(yīng)用領(lǐng)域:目前光通信已經(jīng)發(fā)展非???,實(shí)現(xiàn)從90年代的干線傳輸,到2000年后數(shù)據(jù)中心局域網(wǎng)光互連,當(dāng)前的研究主要在板間光互連及芯片內(nèi)的光互聯(lián)。相比傳統(tǒng)電子芯片,光子芯片在性能瓶頸上將實(shí)現(xiàn)很大的突破。隨著光子芯片技術(shù)的成熟,芯片封裝成本的進(jìn)一步降低,光子芯片將從服務(wù)器、大型數(shù)據(jù)中心、超級(jí)電腦等大型設(shè)備進(jìn)入機(jī)器人、PC、手機(jī)等小型移動(dòng)設(shè)備,應(yīng)用領(lǐng)域、應(yīng)用場(chǎng)景得到極大拓展。隨著精密化和定制化趨勢(shì)的到來,通信領(lǐng)域企業(yè)一直在尋找更快傳輸速率、更低傳輸損耗的傳輸方式,魔技納米憑借豐富經(jīng)驗(yàn)...
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激光直寫是制作衍射光學(xué)元件的主要技術(shù)之一,它利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。激光直寫技術(shù)主要用于制作平面計(jì)算全圖、掩模、微透鏡、微透鏡陣列、Fresnel微透鏡、Fresnel波帶板、連續(xù)位相浮雕的閃耀光學(xué)元件等,制作工藝己經(jīng)逐漸成熟。激光直寫是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描,在光刻膠上直接曝...
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光子橋接優(yōu)勢(shì):1、實(shí)現(xiàn)硅基光電芯片網(wǎng)絡(luò)之間低損耗連接;2、實(shí)現(xiàn)硅基光子芯片網(wǎng)絡(luò)連接自動(dòng)化,提升連接效率;3、提升每毫米芯片尺度連接密度,提升硅基光子芯片集成度;4、實(shí)現(xiàn)三維空間硅基光子芯片間自由連接。光子橋接激光鍵合方式具有無需壓力、無高溫殘余應(yīng)力、無需強(qiáng)電場(chǎng)干擾等諸多優(yōu)勢(shì)。激光退火:激光退火技術(shù)主要用于修復(fù)半導(dǎo)體材料,尤其是硅。傳統(tǒng)的加熱退火技術(shù)是把整個(gè)晶圓放在真空爐中,在一定的溫度(一般是300-1200℃)下退火10-60min。這種退火方式并不能完全消除缺陷,高溫卻導(dǎo)...
12-24
紫外光刻機(jī)廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計(jì),方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料,包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級(jí)套件,實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn):高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場(chǎng)顯微鏡或分視場(chǎng)顯微鏡,實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)、針對(duì)厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng)、可選配通用光學(xué)器件,在不同波長(zhǎng)間進(jìn)行快速切換等。紫外光刻機(jī)是利用一定波長(zhǎng)的紫外光,通過掩模版使特定區(qū)域的光透過,...